威尼斯人 副研究员，硕士生导师。苏州大学凝聚态物理专业博士，获CSC公派芬兰留学资格。曾在纳斯达克上市企业阿特斯阳光电力集团研发部门工作多年，主要从事高效晶硅太阳电池产业化技术的研究和推广，曾带领团队在世界上首次实现湿法纳米黑硅技术的产业化应用，该技术获得“中国好技术”、“江苏好技术”、“中国原创技术”等重要奖项。2021年9月起入职威尼斯人-澳门威尼斯人 工作，历任助理研究员、副研究员。主要研究领域包括：新型光伏材料与器件、微纳结构材料的制备与应用、功能生物材料等领域。目前，已经在国内外核心期刊上发表学术论文50余篇，其中通讯/第一/共一作者20篇；申请专利 100余项，其中作为第一发明人申请中国/PCT 专利共计64项，已授权24项；获得过可再生能源科学技术进步一等奖（排名第一），江苏省科学技术奖三等奖（排名第一），江苏省光伏科学技术奖二等奖（排名第一），中国专利优秀奖（排名第二），姑苏青年创新创业领军人才等多项省市级及以上荣誉。另获，中国可再生能源学会光伏专委会提名推荐中国青年科技奖。目前，主持国自然青年基金1项，中国博士后科学基金面上项目1项，省高校面上项目1项，横向项目2项。
代表性论文：
1. S. Zou*, et al. Tetradecahedral Cu@Ag core–shell powder with high solid-state dewetting and oxidation resistance for low-temperature conductive paste. J. Mater. Chem. A 2024, 12, 1551. (∗通讯作者)
2. S. Zou*, et al. A solid strategy to realize efficient antibacterial activity on the shade surface of bulk silicon under natural or indoor lighting. Chem. Eng. J. 2024, 479, 147734. (∗通讯作者)
3. S. Zou*, et al. In Situ Generating YVO4:Eu3+,Bi3+ Downshifting Phosphors in SiO2 Antireflection Coating for Efficiency Enhancement and Ultraviolet Stability of Silicon Solar Cells. Sol. RRL 2023, 2300215. (∗通讯作者)
4. S. Zou*, et al. Improving the UV-light stability of silicon heterojunction solar cells through plasmon-enhanced luminescence downshifting of YVO4:Eu3+,Bi3+ nanophosphors decorated with Ag nanoparticles. J. Energy Chem. 2023, 81, 212-220. (∗通讯作者)
5. S. Zou*, et al. Improvement of light trapping in bifacial PERC silicon solar cells by optimizing rear surface morphology. ACS Appl. Energ. Mater. 2022, 5, 5875–5885. (∗通讯作者)
6. S. Zou*, et al. Ultrafast Random-Pyramid Texturing for Efficient Monocrystalline Silicon Solar Cells. Sol. RRL 2022, 6(7), 2200204. (∗通讯作者)
7. S. Zou*, et al. Review on Metallization Approaches for High-Efficiency Silicon Heterojunction Solar Cells. Trans. Tianjin Univ. 2022, 28, 358–373. (∗通讯作者)
8. S. Zou*, et al. A solid strategy to realize heteroface selective emitter and rear passivated silicon solar cells. Prog. Photovoltaics 2022, 30(11),1343-1353. (∗通讯作者)
9.S. Zou, et al. Metal-catalyzed chemical etching using DIO3 as a hole injection agent for efficient submicron-textured multicrystalline silicon solar cells. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2021, 227, 111104.
10. S. Zou, et al.Complementary etching behavior of alkali, metal-catalyzed chemical, and post etching of multi-crystalline silicon wafers. Prog. Photovoltaics 2019, 27, 511–519.
代表性授权专利(第一发明人):
1. ZL202110480073.5，中国发明专利，授权日：2022/09/16
2. ZL202120900036.0,中国实用新型，授权日：2021/12/03
3．KR10-2017-0081045，PCT专利，授权日：2019/3/20.
4．CN201610938248.1，中国发明专利，授权日： 2019/1/1.
5．CN201610480492.8，中国发明专利，授权日：2018/11/13.
6．CN201610480361.X，中国发明专利，授权日： 2018/8/24.
7．CN201610480930.0，中国发明专利，授权日： 2018/7/31.
8．CN201510398065.0，中国发明专利，授权日： 2018/6/1.
9．TW105138611，PCT专利，授权日： 2018/6/1.
10. US15/514,287，PCT专利，授权日： 2018/5/8.
11. CN201510398632.2，中国发明专利，授权日： 2018/3/9.
12. CN201610675488.7，中国发明专利，授权日： 2017/11/3.
13. TW105114542，PCT专利，授权日： 2017/9/11.
14. CN201410577812.2，中国发明专利，授权日：2017/7/25.
15. CN201310738572.5，中国发明专利，授权日： 2017/1/25.
16. CN201410694985.2，中国发明专利，授权日： 2016/9/14.
17. CN201310463929.3，中国发明专利，授权日： 2016/5/16.
18. CN201820651376.2，中国实用新型，授权日： 2019/2/22.
19. CN201621162507.8，中国实用新型，授权日： 2017/10/3.
20. CN201621162499.7，中国实用新型，授权日： 2017/6/20.
21. CN201520564492.7，中国实用新型，授权日：2015/12/16.
22. CN201420734910.8，中国实用新型，授权日：2015/3/18.
23. CN201420734682.4，中国实用新型，授权日： 2015/3/4.
24. CN201320691634.7，中国实用新型，授权日： 2014/5/14.
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